天津光亮化学镍-华钿

化学镀镍工艺，是以---盐为还原剂，提供镍离子，---钠的还原性比较强，能够在电镀过程中提供镍离子所需要的电子。

化学镀镍中，为避免---镍沉淀的形成，会使用---酸、柠檬酸、乳酸、苹果酸、---等络合剂，络合剂能够与镍离子结合成复杂的络合离子。

化学镍废水主要来源是化学镍电镀液的清洗水，化学镍电镀液中存在络合剂以及---钠，因此化学镍废水的主要构成是---和络合镍，对应电镀废水处理指标中的镍含量以及磷含量。

化学镀镍与电镀比较

不需要外加直流电源设备。

镀层致密，孔隙少。

不存在电力线分布不均匀的影响，对几何形状复杂的镀件，也能获得厚度均匀的镀层；

可在金属、非金属、半导体等各种不同基材上镀覆。

化学镀与电镀相比，所用的溶液稳定性较差，且溶液的维护、调整和再生都比较麻烦，天津光亮化学镍，材料成本费较高。

化学镀工艺在电子工业中有重要的---。由于采用的还原剂种类不同，使化学镀所得的镀层性能有---的差异，因此，在选定镀液配方时，要慎重考虑镀液的经济性及所得镀层的特性。