




在没有杂质的情况下,一个简单而有效的方法为加入防剂,在光泽性镀镍中可加入润湿剂如十二烷基---钠,用量为0.01~0.05克/升。在普通镀镍中,金属表面镀镍厂,可在每天工作完毕之后加入0.1毫升/升。加入后将溶液予以搅拌。在(或其它氧化剂)的存在下,本来h+在阴极还原成h2的反应由氧化剂在阴极上的还原而取代之,使氢气泡无以产生,亦可避免。但镀液内如含有过多的杂质,金属表面镀镍,则这些措施的效果亦受到影响,甚至无效,这时就应对镀液进行净化处理。
用化学镍电镀沉积的镀层,有一些不同于电沉积层的特性。
以---钠为还原剂时,由于有磷析出,发生磷与镍的共沉积,所以化学镍电镀层是磷呈弥散态的镍磷合金镀层,镀层中磷的分数为1%~l5%,控制磷含量得到的镍磷镀层致密、无孔,耐蚀性远优于电镀镍。以硼氢化物或---为还原剂时,化学镍电镀层是镍硼合金镀层,硼的含量为1%~7%。只有以肼作还原剂得到的镀层才是纯镍层,天津金属表面镀镍,含镍量可达到99.5%以上。
镍封:是镀液加入直径0.01-1um的不溶性固体微粒,共沉积而形成复合镀镍层。在其上沉积铬层时,形成微孔铬层。可以消除镀铬层中的内应力,减少镀层的应力腐蚀,更重要的是铬层上的大量微孔,将镍层大面积地暴露出来,在腐蚀介质的作用下,铬与镍组成腐蚀电池,铬层为阴极,金属表面镀镍价格,暴露的镍层为阳极而遭腐蚀,改变了大阴阳极的腐蚀模式,使得腐蚀电流被分散到整个镀镍层上,防止产生大而深的直贯基体的少量腐蚀沟纹和凹坑,使镀层的腐蚀速度减小,且向横向发展,---的提高了镀层的耐腐蚀性能。
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